概括了光学级类金刚石(DLC)膜的优点与性能,对最常用的几种制备类金刚石膜的方法——脉冲激光沉积法、磁过滤电弧沉积法、射频辉光放电等离子体化学气相沉积法、磁控溅射法、射频溅射法和离子束沉积法的原理、特点、研究进展、所制备的类金刚石膜的性能以及类金刚石膜在各种光学材料和领域的应用状况进行了详细的总结。
通过对国内外研究进展的分析,揭示出光学级类金刚石膜各种制备方法的优劣及其广阔的应用前景和巨大的实用价值。

研究了磁控溅射制备Sub/NiCrN

根据GeC薄膜折射率可调的特点，采用磁控溅射技术，在Ge基底上沉积了不同折射率的GeC薄膜以及类金刚石(DLC)膜和红外双波段保护膜。
利用红外光谱仪测试了样品的红外透射光谱，利用偏光显微镜和显微硬度计测量了样品的维氏硬度。
结果表明，GeC,DLC以及红外双波段保护膜均能显著提高样品的显微硬度；
红外双波段保护膜在3.7~4.8μm和7.5~10.5μm波段范围内的平均透射率均高于94%，样品硬度高于单层GeC薄膜和DLC薄膜。
红外双波段薄膜样品通过了GJB2485-95规定的环境实验。

金属网栅和氧化铟锡(ITO)等透明导电膜是实现电磁屏蔽和可视兼容的常用材料，但其屏蔽和可见光透射率受到了很大的限制。
通过解决屏蔽、导电与可视功能相互制约的矛盾，可有效提高电磁屏蔽与可视功能的兼容性。
为此，报道了一种金属光子晶体透明膜。
采用磁控溅射制备了ITO/Ag为周期的金属光子晶体透明膜，研究了周期结构对样品屏蔽效能、透射率和方阻的影响。
研究表明，随着单位周期金属膜厚的增加，可见光600~800nm波段透射率降低10%以上，可见光透射光谱变窄。
同时400～600nm波长范围内透射率并没有随金属膜厚的增加而降低，甚至升高。
随着单位周期金属膜厚增加，微波频段的屏蔽效能相应提高，方阻相应降低。
实验证实：光子晶体膜的屏蔽效能与光子晶体中总金属膜厚不存在明确的因果关系，而是与“金属-电介质”的纳米周期结构相关。
制备了一种屏效高达70dB，方阻低达2.1Ω，透射率大于50%的光子晶体膜。

金属网栅和氧化铟锡(ITO)等透明导电膜是实现电磁屏蔽和可视兼容的常用材料，但其屏蔽和可见光透射率受到了很大的限制。
通过解决屏蔽、导电与可视功能相互制约的矛盾，可有效提高电磁屏蔽与可视功能的兼容性。
为此，报道了一种金属光子晶体透明膜。
采用磁控溅射制备了ITO/Ag为周期的金属光子晶体透明膜，研究了周期结构对样品屏蔽效能、透射率和方阻的影响。
研究表明，随着单位周期金属膜厚的增加，可见光600~800nm波段透射率降低10%以上，可见光透射光谱变窄。
同时400～600nm波长范围内透射率并没有随金属膜厚的增加而降低，甚至升高。
随着单位周期金属膜厚增加，微波频段的屏蔽效能相应提高，方阻相应降低。
实验证实：光子晶体膜的屏蔽效能与光子晶体中总金属膜厚不存在明确的因果关系，而是与“金属-电介质”的纳米周期结构相关。
制备了一种屏效高达70dB，方阻低达2.1Ω，透射率大于50%的光子晶体膜。

在日常工作中，钉钉打卡成了我生活中不可或缺的一部分。然而，有时候这个看似简单的任务却给我带来了不少烦恼。 每天早晚，我总是得牢记打开钉钉应用，点击"工作台"，再找到"考勤打卡"进行签到。有时候因为工作忙碌，会忘记打卡，导致考勤异常，影响当月的工作评价。而且，由于我使用的是苹果手机，有时候系统更新后，钉钉的某些功能会出现异常，使得打卡变得更加麻烦。 另外，我的家人使用的是安卓手机，他们也经常抱怨钉钉打卡的繁琐。尤其是对于那些不太熟悉手机操作的长辈来说，每次打卡都是一次挑战。他们总是担心自己会操作失误，导致打卡失败。 为了解决这些烦恼，我开始思考是否可以通过编写一个全自动化脚本来实现钉钉打卡。经过一段时间的摸索和学习，我终于成功编写出了一个适用于苹果和安卓系统的钉钉打卡脚本。