利用光学傅里叶变换研究多晶硅绒面微结构形貌与反射率之间的关系。
理论分析表明：多晶硅绒面反射率与表面微结构形貌、单位面积上陷阱坑数量有关。
如绒面由V字型槽或坑构成，则绒面反射率比较高；
如多晶硅表面上密集布满U字形坑或槽、内表面绒面化，这种结构构成的绒面反射率低。
实验上用不同比例的酸液刻蚀多晶体表面，用扫描电镜(SEM)观察多晶硅表面SEM图，测量了其表面反射率，分析表面结构形貌与反射率的关系。
实验结果与理论分析相吻合。

采用激光熔覆技术在45#钢表面分别制备了Ni60A涂层及SiC/Ni60A复合涂层。
采用光学显微镜(OM)、扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)仪对涂层进行了显微组织和物相分析,并测试了熔覆层的显微硬度和耐冲蚀磨损性能。
结果表明,在激光作用下,SiC由于具有较小的生成热容易溶解在合金涂层中。
熔覆层的物相主要由γ(Ni-Cr-Fe)固溶体及Fe7C3,Fe0.79C0.12Si0.09等化合物组成。
在固溶强化、第二相强化及细晶强化的共同作用下,SiC/Ni60A涂层的抗冲蚀性能显著提高,涂层的显微硬度也明显增加。

利用CO2激光对火焰喷涂制备的Ni-WC复合涂层进行了重熔实验,通过扫描电镜(SEM)观察了其重熔后表面形貌,测试了含有不同WC体积分数样品重熔前后的涂层显微硬度,并分析了WC含量对涂层组织及耐磨性的影响。
实验结果表明,火焰喷涂制备的涂层气孔随着WC颗粒含量增大而增多,经激光重熔后气孔明显减少;激光重熔后的涂层显微硬度比火焰喷涂的涂层显微硬度提高约20%,WC体积分数为6%时涂层显微硬度达到最大值;激光重熔处理后的涂层耐磨性随着WC含量的增加而增大,WC体积分数为6%时,其耐磨性达到最佳值。

实验中初次观察到了吸附于银胶体颗粒表面的邻菲啰啉(O-phenanthroline)和2,2’-联吡啶(2,2’-bipyridine)分子及其亚铁铬离子的表面增强喇曼光谱(SERS),为吡啶SER谱中200cm~(-1)处喇曼峰是N—Ag键振动的观点提供了实验依据.对加入亚铁离子前后的SER谱进行了比较,结合其他实验结果(电镜照片、透射光谱)对所发现的实验现象进行了分析和解释.

研究了调QEr:YAG激光消融离体牙本质过程中水雾的作用及其对消融后牙本质微结构的影响。
调QEr:YAG激光重复频率为3Hz，脉冲宽度为62ns，作用脉冲数为10，能量范围为4～70mJ，水雾流量分别为0，4，9，13mL/min时消融牙本质。
每种实验条件下消融10个牙本质样品，利用扫描电镜观察消融坑洞微结构。
实验结果表明，随着水雾流量的增加，调QEr:YAG激光对人牙本质的消融阈值呈逐步增加的趋势，牙本质所受机械损伤减小。
实验结果对了解调QEr:YAG激光消融牙硬组织的微观结构及牙科治疗应用具有参考价值。

优化版本的冷冻电镜的低通滤波算法v1.1，目标，将冷冻电镜图像，经过低通滤波算法降噪，输入冷冻电镜图像，输出信息集中的降噪图像。
参考文章：https://blog.csdn.net/caroline_wendy/article/details/126127817?spm=1001.2014.3001.5502

在日常工作中，钉钉打卡成了我生活中不可或缺的一部分。然而，有时候这个看似简单的任务却给我带来了不少烦恼。 每天早晚，我总是得牢记打开钉钉应用，点击"工作台"，再找到"考勤打卡"进行签到。有时候因为工作忙碌，会忘记打卡，导致考勤异常，影响当月的工作评价。而且，由于我使用的是苹果手机，有时候系统更新后，钉钉的某些功能会出现异常，使得打卡变得更加麻烦。 另外，我的家人使用的是安卓手机，他们也经常抱怨钉钉打卡的繁琐。尤其是对于那些不太熟悉手机操作的长辈来说，每次打卡都是一次挑战。他们总是担心自己会操作失误，导致打卡失败。 为了解决这些烦恼，我开始思考是否可以通过编写一个全自动化脚本来实现钉钉打卡。经过一段时间的摸索和学习，我终于成功编写出了一个适用于苹果和安卓系统的钉钉打卡脚本。