通过高分辨率电子束光刻方法制备了不同形状的三层复合材料纳米颗粒，研究了这种纳米颗粒的形状变化对消光特性的影响。
测试结果表明，当入射波偏振方向平行于短轴时，随着长宽比的增大，共振峰位置发生“蓝移”；
当光源偏振方向平行于长轴时，随着长宽比的增大，共振峰位置发生“红移”。
还用时域有限差分算法以及表面等离波子的Lorentz模型对纳米颗粒的消光特性进行数值计算，所得的消光频谱曲线、共振峰位置变化趋势与实验基本一致。
此外，还研究了主体材料层厚度对消光特性的影响，发现其厚度在20~90nm变化时，共振峰发生3~115nm的“蓝移”。
测试结果表明，当入射波偏振方向平行于短轴时，随着长宽比的增大，共振峰位置发生“蓝移”；
当光源偏振方向平行于长轴时，随着长宽比的增大，共振峰位置发生“红移”。
还用时域有限差分算法以及表面等离波子的Lorentz模型对纳米颗粒的消光特性进行数值计算，所得的消光频谱曲线、共振峰位置变化趋势与实验基本一致。
此外，还研究了主体材料层厚度对消光特性的影响，发现其厚度在20~90nm变化时，共振峰发生3~115nm的“蓝移”。
2024/7/3 19:14:29
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相分离一直是液晶（LC）-聚合物复合材料中一个有趣且重要的主题。
我们通过基于振幅调制的空间光调制器的无掩模光刻系统研究了LC聚合物复合物中光致聚合引起的相分离。
通过优化曝光条件和材料，我们在LC聚合物复合材料中实现了二维（2D）液晶液滴阵列（LCDA）。
进一步的研究表明，这种二维LCDA作为微透镜阵列，在一定电压下表现出与偏振无关的，电可调的聚焦特性。
由于在成本效益，快速制造和偏振无关的，电可调聚焦方面的优势，LC-聚合物复合材料中的这种相分离的微透镜阵列可以找到许多潜在的光学应用。
我们通过基于振幅调制的空间光调制器的无掩模光刻系统研究了LC聚合物复合物中光致聚合引起的相分离。
通过优化曝光条件和材料，我们在LC聚合物复合材料中实现了二维（2D）液晶液滴阵列（LCDA）。
进一步的研究表明，这种二维LCDA作为微透镜阵列，在一定电压下表现出与偏振无关的，电可调的聚焦特性。
由于在成本效益，快速制造和偏振无关的，电可调聚焦方面的优势，LC-聚合物复合材料中的这种相分离的微透镜阵列可以找到许多潜在的光学应用。
2024/3/14 4:55:54
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荷兰ASML光刻机公司内部控制类PPT资料介绍传递函数计算描述开环,闭环，灵敏度传函的定义；
伯德图的matlab绘制
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2023/12/24 7:16:49
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主要内容：本课程围绕超大规模集成电路制造中的先进光刻技术，陈述与之相关的理论、设备、材料、测量与控制等。
为了适应当前先进光刻的需求，本课程会重点讲述在14nm及以下节点广泛使用的计算光刻、分辨率增强技术以及设计-工艺联合优化技术等。
•授课目标：掌握光刻技术的原理，对计算光刻技术进行深入研讨•授课对象：微电子学与固体电子学专业，集成电路制造专业研究生
为了适应当前先进光刻的需求，本课程会重点讲述在14nm及以下节点广泛使用的计算光刻、分辨率增强技术以及设计-工艺联合优化技术等。
•授课目标：掌握光刻技术的原理，对计算光刻技术进行深入研讨•授课对象：微电子学与固体电子学专业，集成电路制造专业研究生
2023/8/13 8:08:40
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光刻十步法：大概豫备—涂光刻胶—软烘焙—瞄准以及曝光—显影—硬烘焙—显影目测—刻蚀—光刻胶去除了—终纵目检.doc
2023/3/22 22:23:25
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半导体工艺，有关光刻很好的书，也是当前最新的书ISBN-10:0470727306可以在www.amazon.com上找到此书具体信息
2018/9/6 5:42:22
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一个关于微纳加工的课件，讲了微纳加工的进展、光刻、力学、热学、摩擦等等。
不错的，值得看
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2019/9/27 13:54:30
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在日常工作中，钉钉打卡成了我生活中不可或缺的一部分。然而，有时候这个看似简单的任务却给我带来了不少烦恼。
每天早晚，我总是得牢记打开钉钉应用，点击"工作台"，再找到"考勤打卡"进行签到。有时候因为工作忙碌，会忘记打卡，导致考勤异常，影响当月的工作评价。而且，由于我使用的是苹果手机，有时候系统更新后，钉钉的某些功能会出现异常，使得打卡变得更加麻烦。
另外，我的家人使用的是安卓手机，他们也经常抱怨钉钉打卡的繁琐。尤其是对于那些不太熟悉手机操作的长辈来说，每次打卡都是一次挑战。他们总是担心自己会操作失误，导致打卡失败。
为了解决这些烦恼，我开始思考是否可以通过编写一个全自动化脚本来实现钉钉打卡。经过一段时间的摸索和学习，我终于成功编写出了一个适用于苹果和安卓系统的钉钉打卡脚本。
2024-04-09 15:03
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