文泰刻绘是一款专业的电脑专用刻绘软件。
软件可广泛应用于广告、展览、宣传、装潢、美工等领域。
软件能够完成用户刻字绘图的全部需要：编辑、排版、图像处理、彩色处理、表格排版、刻绘输出等诸多。
软件内置了30000多幅图样，操作简单，只需要设好加工所需的版面尺寸，即可迅速通过电脑刻绘机，把画稿刻绘在喷砂雕刻保护膜上即可加工，有效地降低了成本，提高工作效率和质量。
是用户实现电脑刻绘功能的好帮手。
文泰刻绘功能特点1.采用最新版专用刻绘程序2.直接刻绘输出，支持USB刻字机3.支持最新Vista操作系统4.内含各类艺术玻璃图案30000余幅，应有尽有文泰刻绘的安装 把下载好的安装包解压到当前文件夹，之后双击【文泰刻绘2016注册版2.exe】运行文件进行安装，打开的时候会出现安装框，依次开始安装，依照步骤点击下一步，并选择同意协议和软件安装位置即可。
点击【完成】按钮，文泰刻绘软件安装过程就完成了。
文泰刻绘的使用 安装完成后，点击【文泰刻绘】快捷方式即可进入文泰刻绘软件。
如图所示，这是软件的初始界面。
用户可以选择打开旧文件或是创建新文件等操作。
如图所示，这是软件的主界面。
用户可以点击界面的各种按钮实现自己所需要的各种功能。
软件的功能就大致引见到这里了，软件其余的具体功能就有小伙伴们自己去发掘吧。
软件可广泛应用于广告、展览、宣传、装潢、美工等领域。
软件能够完成用户刻字绘图的全部需要：编辑、排版、图像处理、彩色处理、表格排版、刻绘输出等诸多。
软件内置了30000多幅图样，操作简单，只需要设好加工所需的版面尺寸，即可迅速通过电脑刻绘机，把画稿刻绘在喷砂雕刻保护膜上即可加工，有效地降低了成本，提高工作效率和质量。
是用户实现电脑刻绘功能的好帮手。
文泰刻绘功能特点1.采用最新版专用刻绘程序2.直接刻绘输出，支持USB刻字机3.支持最新Vista操作系统4.内含各类艺术玻璃图案30000余幅，应有尽有文泰刻绘的安装 把下载好的安装包解压到当前文件夹，之后双击【文泰刻绘2016注册版2.exe】运行文件进行安装，打开的时候会出现安装框，依次开始安装，依照步骤点击下一步，并选择同意协议和软件安装位置即可。
点击【完成】按钮，文泰刻绘软件安装过程就完成了。
文泰刻绘的使用 安装完成后，点击【文泰刻绘】快捷方式即可进入文泰刻绘软件。
如图所示，这是软件的初始界面。
用户可以选择打开旧文件或是创建新文件等操作。
如图所示，这是软件的主界面。
用户可以点击界面的各种按钮实现自己所需要的各种功能。
软件的功能就大致引见到这里了，软件其余的具体功能就有小伙伴们自己去发掘吧。
2023/3/4 10:10:09
41.84MB
1
经过Python编程，遍历文件夹中tif文件，批量进行掩膜处理。
经过Python编程，遍历文件夹中tif文件，批量进行掩膜处理。
经过Python编程，遍历文件夹中tif文件，批量进行掩膜处理。
2023/2/21 12:55:20
1KB
1
金属网栅和氧化铟锡(ITO)等透明导电膜是实现电磁屏蔽和可视兼容的常用材料，但其屏蔽和可见光透射率受到了很大的限制。
通过解决屏蔽、导电与可视功能相互制约的矛盾，可有效提高电磁屏蔽与可视功能的兼容性。
为此，报道了一种金属光子晶体透明膜。
采用磁控溅射制备了ITO/Ag为周期的金属光子晶体透明膜，研究了周期结构对样品屏蔽效能、透射率和方阻的影响。
研究表明，随着单位周期金属膜厚的增加，可见光600~800nm波段透射率降低10%以上，可见光透射光谱变窄。
同时400～600nm波长范围内透射率并没有随金属膜厚的增加而降低，甚至升高。
随着单位周期金属膜厚增加，微波频段的屏蔽效能相应提高，方阻相应降低。
实验证实：光子晶体膜的屏蔽效能与光子晶体中总金属膜厚不存在明确的因果关系，而是与“金属-电介质”的纳米周期结构相关。
制备了一种屏效高达70dB，方阻低达2.1Ω，透射率大于50%的光子晶体膜。
通过解决屏蔽、导电与可视功能相互制约的矛盾，可有效提高电磁屏蔽与可视功能的兼容性。
为此，报道了一种金属光子晶体透明膜。
采用磁控溅射制备了ITO/Ag为周期的金属光子晶体透明膜，研究了周期结构对样品屏蔽效能、透射率和方阻的影响。
研究表明，随着单位周期金属膜厚的增加，可见光600~800nm波段透射率降低10%以上，可见光透射光谱变窄。
同时400～600nm波长范围内透射率并没有随金属膜厚的增加而降低，甚至升高。
随着单位周期金属膜厚增加，微波频段的屏蔽效能相应提高，方阻相应降低。
实验证实：光子晶体膜的屏蔽效能与光子晶体中总金属膜厚不存在明确的因果关系，而是与“金属-电介质”的纳米周期结构相关。
制备了一种屏效高达70dB，方阻低达2.1Ω，透射率大于50%的光子晶体膜。
2015/3/8 6:19:45
1.19MB
1
金属网栅和氧化铟锡(ITO)等透明导电膜是实现电磁屏蔽和可视兼容的常用材料，但其屏蔽和可见光透射率受到了很大的限制。
通过解决屏蔽、导电与可视功能相互制约的矛盾，可有效提高电磁屏蔽与可视功能的兼容性。
为此，报道了一种金属光子晶体透明膜。
采用磁控溅射制备了ITO/Ag为周期的金属光子晶体透明膜，研究了周期结构对样品屏蔽效能、透射率和方阻的影响。
研究表明，随着单位周期金属膜厚的增加，可见光600~800nm波段透射率降低10%以上，可见光透射光谱变窄。
同时400～600nm波长范围内透射率并没有随金属膜厚的增加而降低，甚至升高。
随着单位周期金属膜厚增加，微波频段的屏蔽效能相应提高，方阻相应降低。
实验证实：光子晶体膜的屏蔽效能与光子晶体中总金属膜厚不存在明确的因果关系，而是与“金属-电介质”的纳米周期结构相关。
制备了一种屏效高达70dB，方阻低达2.1Ω，透射率大于50%的光子晶体膜。
通过解决屏蔽、导电与可视功能相互制约的矛盾，可有效提高电磁屏蔽与可视功能的兼容性。
为此，报道了一种金属光子晶体透明膜。
采用磁控溅射制备了ITO/Ag为周期的金属光子晶体透明膜，研究了周期结构对样品屏蔽效能、透射率和方阻的影响。
研究表明，随着单位周期金属膜厚的增加，可见光600~800nm波段透射率降低10%以上，可见光透射光谱变窄。
同时400～600nm波长范围内透射率并没有随金属膜厚的增加而降低，甚至升高。
随着单位周期金属膜厚增加，微波频段的屏蔽效能相应提高，方阻相应降低。
实验证实：光子晶体膜的屏蔽效能与光子晶体中总金属膜厚不存在明确的因果关系，而是与“金属-电介质”的纳米周期结构相关。
制备了一种屏效高达70dB，方阻低达2.1Ω，透射率大于50%的光子晶体膜。
2015/3/8 6:19:45
1.19MB
1
EMSF61XA微球测井仪是石油勘探重要的电法测井仪器，主要用于探测钻进地层的冲洗带电阻率Rxo1，配合DLL双侧向测井的浸入带和原状地层电阻率，可以很好地判断地层的渗透性等。
在过去的2年里EMSF61XA测井仪器2在测井或保养仪器过程中不断出现相敏检波板厚膜电路N1损坏的问题，造成测井作业返工，极大地影响了测井时效，增大了设备的维修成本。
文中通过对问题发生过程的综合判断和进一步地测试，发现了问题根源，并通过仪器电路的改进来最终消除了问题发生的根源，使仪器可靠地工作。
在过去的2年里EMSF61XA测井仪器2在测井或保养仪器过程中不断出现相敏检波板厚膜电路N1损坏的问题，造成测井作业返工，极大地影响了测井时效，增大了设备的维修成本。
文中通过对问题发生过程的综合判断和进一步地测试，发现了问题根源，并通过仪器电路的改进来最终消除了问题发生的根源，使仪器可靠地工作。
2018/3/11 20:44:19
734KB
1
在日常工作中，钉钉打卡成了我生活中不可或缺的一部分。然而，有时候这个看似简单的任务却给我带来了不少烦恼。
每天早晚，我总是得牢记打开钉钉应用，点击"工作台"，再找到"考勤打卡"进行签到。有时候因为工作忙碌，会忘记打卡，导致考勤异常，影响当月的工作评价。而且，由于我使用的是苹果手机，有时候系统更新后，钉钉的某些功能会出现异常，使得打卡变得更加麻烦。
另外，我的家人使用的是安卓手机，他们也经常抱怨钉钉打卡的繁琐。尤其是对于那些不太熟悉手机操作的长辈来说，每次打卡都是一次挑战。他们总是担心自己会操作失误，导致打卡失败。
为了解决这些烦恼，我开始思考是否可以通过编写一个全自动化脚本来实现钉钉打卡。经过一段时间的摸索和学习，我终于成功编写出了一个适用于苹果和安卓系统的钉钉打卡脚本。
2024-04-09 15:03
15KB