理论推导了轴棱锥顶点离轴加工误差的透射率函数。
在惠更斯-菲涅耳衍射积分理论和稳相近似法的基础上，推导出顶点离轴轴棱锥后的衍射光场表达式，分析了顶点离轴加工误差对贝塞尔光束的影响。
对顶点离轴轴棱锥后衍射光场进行数值模仿，结果表明，当为理想加工轴棱锥时，轴棱锥后的光场分布为近似理想贝塞尔光束；
当存在加工误差时，衍射光斑对半分离。
相同距离处，分离程度随顶点离轴误差的增加而增加；
相同的顶点离轴误差下，分离程度随传输距离的增加而增加。
同时，还研究了这种元件的加工厚度对光斑分离程度的影响，结果表明，随着加工厚度的增加，光斑分离程度也会逐步增大。
研究结果对轴棱锥加工、贝塞尔光束应用等具有一定的指导意义。
在惠更斯-菲涅耳衍射积分理论和稳相近似法的基础上，推导出顶点离轴轴棱锥后的衍射光场表达式，分析了顶点离轴加工误差对贝塞尔光束的影响。
对顶点离轴轴棱锥后衍射光场进行数值模仿，结果表明，当为理想加工轴棱锥时，轴棱锥后的光场分布为近似理想贝塞尔光束；
当存在加工误差时，衍射光斑对半分离。
相同距离处，分离程度随顶点离轴误差的增加而增加；
相同的顶点离轴误差下，分离程度随传输距离的增加而增加。
同时，还研究了这种元件的加工厚度对光斑分离程度的影响，结果表明，随着加工厚度的增加，光斑分离程度也会逐步增大。
研究结果对轴棱锥加工、贝塞尔光束应用等具有一定的指导意义。
2023/3/5 20:24:23
4.43MB
1
运用Lambert—Beer定律并根据血氧饱和度的定义，可推出血氧饱和度的近似公式：SaO2=A+BR(1)其中，R为两波长光吸收度变化的比值，A、B为常数，与仪器硬件结构、测量环境有关[1-2]
2023/2/18 1:31:08
875KB
1
为克服光电探测器动态范围不足，难以在同一条件下精确测量线偏振器的最小光强透射率及最大光强透射率的问题，提出一种基于非线性拟合的消光比测量方法并搭建了相应的测量安装。
该方法只需在限定的角度范围内旋转被测线偏振器并采集对应的光强变化，根据建立的数学模型，进行非线性余弦拟合数据处理，进而解算出消光比。
实验结果表明，该方法的测量精度可达10
该方法只需在限定的角度范围内旋转被测线偏振器并采集对应的光强变化，根据建立的数学模型，进行非线性余弦拟合数据处理，进而解算出消光比。
实验结果表明，该方法的测量精度可达10
2023/2/15 12:17:57
1.01MB
1
采用模拟与实验相结合的方式研究激光透射焊接件拉伸过程中的应力分布和拉伸件的失效行为。
以PA66激光透射焊接件为研究对象，建立了焊后拉伸数值模拟模型，模拟得到了焊接件的拉伸载荷-位移曲线和拉伸变形情况，并与拉伸实验进行对比和验证；
对拉伸过程中焊接件的剪切应力和VonMises应力分布进行分析，从剪切和拉伸失效方面探究拉伸件的失效行为。
拉伸实验验证了拉伸数值模拟模型能较好地预测焊接件的拉伸变形情况；
数值模拟得到最大剪切应力发生在焊接界面上长方形焊接区域的4个角点附近，即剪切失效的起始位置，且由于最大剪切应力远小于PA66的剪切强度，拉伸件发生剪切失效的可能性较小。
预测的焊接件拉伸失效方式及失效位
以PA66激光透射焊接件为研究对象，建立了焊后拉伸数值模拟模型，模拟得到了焊接件的拉伸载荷-位移曲线和拉伸变形情况，并与拉伸实验进行对比和验证；
对拉伸过程中焊接件的剪切应力和VonMises应力分布进行分析，从剪切和拉伸失效方面探究拉伸件的失效行为。
拉伸实验验证了拉伸数值模拟模型能较好地预测焊接件的拉伸变形情况；
数值模拟得到最大剪切应力发生在焊接界面上长方形焊接区域的4个角点附近，即剪切失效的起始位置，且由于最大剪切应力远小于PA66的剪切强度，拉伸件发生剪切失效的可能性较小。
预测的焊接件拉伸失效方式及失效位
2023/2/11 4:16:19
12.28MB
1
金属网栅和氧化铟锡(ITO)等透明导电膜是实现电磁屏蔽和可视兼容的常用材料，但其屏蔽和可见光透射率受到了很大的限制。
通过解决屏蔽、导电与可视功能相互制约的矛盾，可有效提高电磁屏蔽与可视功能的兼容性。
为此，报道了一种金属光子晶体透明膜。
采用磁控溅射制备了ITO/Ag为周期的金属光子晶体透明膜，研究了周期结构对样品屏蔽效能、透射率和方阻的影响。
研究表明，随着单位周期金属膜厚的增加，可见光600~800nm波段透射率降低10%以上，可见光透射光谱变窄。
同时400～600nm波长范围内透射率并没有随金属膜厚的增加而降低，甚至升高。
随着单位周期金属膜厚增加，微波频段的屏蔽效能相应提高，方阻相应降低。
实验证实：光子晶体膜的屏蔽效能与光子晶体中总金属膜厚不存在明确的因果关系，而是与“金属-电介质”的纳米周期结构相关。
制备了一种屏效高达70dB，方阻低达2.1Ω，透射率大于50%的光子晶体膜。
通过解决屏蔽、导电与可视功能相互制约的矛盾，可有效提高电磁屏蔽与可视功能的兼容性。
为此，报道了一种金属光子晶体透明膜。
采用磁控溅射制备了ITO/Ag为周期的金属光子晶体透明膜，研究了周期结构对样品屏蔽效能、透射率和方阻的影响。
研究表明，随着单位周期金属膜厚的增加，可见光600~800nm波段透射率降低10%以上，可见光透射光谱变窄。
同时400～600nm波长范围内透射率并没有随金属膜厚的增加而降低，甚至升高。
随着单位周期金属膜厚增加，微波频段的屏蔽效能相应提高，方阻相应降低。
实验证实：光子晶体膜的屏蔽效能与光子晶体中总金属膜厚不存在明确的因果关系，而是与“金属-电介质”的纳米周期结构相关。
制备了一种屏效高达70dB，方阻低达2.1Ω，透射率大于50%的光子晶体膜。
2015/3/8 6:19:45
1.19MB
1
金属网栅和氧化铟锡(ITO)等透明导电膜是实现电磁屏蔽和可视兼容的常用材料，但其屏蔽和可见光透射率受到了很大的限制。
通过解决屏蔽、导电与可视功能相互制约的矛盾，可有效提高电磁屏蔽与可视功能的兼容性。
为此，报道了一种金属光子晶体透明膜。
采用磁控溅射制备了ITO/Ag为周期的金属光子晶体透明膜，研究了周期结构对样品屏蔽效能、透射率和方阻的影响。
研究表明，随着单位周期金属膜厚的增加，可见光600~800nm波段透射率降低10%以上，可见光透射光谱变窄。
同时400～600nm波长范围内透射率并没有随金属膜厚的增加而降低，甚至升高。
随着单位周期金属膜厚增加，微波频段的屏蔽效能相应提高，方阻相应降低。
实验证实：光子晶体膜的屏蔽效能与光子晶体中总金属膜厚不存在明确的因果关系，而是与“金属-电介质”的纳米周期结构相关。
制备了一种屏效高达70dB，方阻低达2.1Ω，透射率大于50%的光子晶体膜。
通过解决屏蔽、导电与可视功能相互制约的矛盾，可有效提高电磁屏蔽与可视功能的兼容性。
为此，报道了一种金属光子晶体透明膜。
采用磁控溅射制备了ITO/Ag为周期的金属光子晶体透明膜，研究了周期结构对样品屏蔽效能、透射率和方阻的影响。
研究表明，随着单位周期金属膜厚的增加，可见光600~800nm波段透射率降低10%以上，可见光透射光谱变窄。
同时400～600nm波长范围内透射率并没有随金属膜厚的增加而降低，甚至升高。
随着单位周期金属膜厚增加，微波频段的屏蔽效能相应提高，方阻相应降低。
实验证实：光子晶体膜的屏蔽效能与光子晶体中总金属膜厚不存在明确的因果关系，而是与“金属-电介质”的纳米周期结构相关。
制备了一种屏效高达70dB，方阻低达2.1Ω，透射率大于50%的光子晶体膜。
2015/3/8 6:19:45
1.19MB
1
在日常工作中，钉钉打卡成了我生活中不可或缺的一部分。然而，有时候这个看似简单的任务却给我带来了不少烦恼。
每天早晚，我总是得牢记打开钉钉应用，点击"工作台"，再找到"考勤打卡"进行签到。有时候因为工作忙碌，会忘记打卡，导致考勤异常，影响当月的工作评价。而且，由于我使用的是苹果手机，有时候系统更新后，钉钉的某些功能会出现异常，使得打卡变得更加麻烦。
另外，我的家人使用的是安卓手机，他们也经常抱怨钉钉打卡的繁琐。尤其是对于那些不太熟悉手机操作的长辈来说，每次打卡都是一次挑战。他们总是担心自己会操作失误，导致打卡失败。
为了解决这些烦恼，我开始思考是否可以通过编写一个全自动化脚本来实现钉钉打卡。经过一段时间的摸索和学习，我终于成功编写出了一个适用于苹果和安卓系统的钉钉打卡脚本。
2024-04-09 15:03
15KB