在计入相干效应和考虑衬底影响的基础上,提出一种非破坏性的简易分析法。
利用此法,由非晶硅试样的光谱透射曲线可确定膜层的厚度、折射率及吸收系数。
作为例子,我们计算了α-Si:H及α-SiC:H薄膜的光隙。
利用此法,由非晶硅试样的光谱透射曲线可确定膜层的厚度、折射率及吸收系数。
作为例子,我们计算了α-Si:H及α-SiC:H薄膜的光隙。
2023/10/9 22:03:30
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对氧化物薄膜的双离子束溅射沉积作了系统地实验研究。
考察了离子束溅射工艺参数对薄膜光学特性的影响，制备了折射率接近于块材料的TiO2和ZrO2薄膜，显著降低了TiO2、ZrO2和SiO2薄膜的光吸收损耗，TiO2和ZrO2薄膜的抗激光损伤阈值得到显著提高。
用双离子束溅射沉积1.06μm多层高反膜，得到了大于99.5%的高反射率，经高温退火处理的双离子束溅射沉积高反膜的抗激光损伤阈值同热蒸发沉积的高反膜相比有所提高。
考察了离子束溅射工艺参数对薄膜光学特性的影响，制备了折射率接近于块材料的TiO2和ZrO2薄膜，显著降低了TiO2、ZrO2和SiO2薄膜的光吸收损耗，TiO2和ZrO2薄膜的抗激光损伤阈值得到显著提高。
用双离子束溅射沉积1.06μm多层高反膜，得到了大于99.5%的高反射率，经高温退火处理的双离子束溅射沉积高反膜的抗激光损伤阈值同热蒸发沉积的高反膜相比有所提高。
2023/10/2 2:14:46
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研究了1064nm激光辐照致光学薄膜分层剥落的损伤特性及其抑制手段。
从光学薄膜的界面结构出发分析了温升在分层剥落产生过程中的作用,从理论上得出了剥落面积与辐照脉冲能量之间的关系式并通过实验进行验证,间接证明了分层剥落的成因;对分层剥落的抑制、改善方法进行了理论探讨与实验,证明亚阈值能量脉冲预辐照之后剥落面积明显减小,并且在一定范围内预辐照脉冲的能量密度越高相应的效果越明显,对作用机制给出了定性解释。
从光学薄膜的界面结构出发分析了温升在分层剥落产生过程中的作用,从理论上得出了剥落面积与辐照脉冲能量之间的关系式并通过实验进行验证,间接证明了分层剥落的成因;对分层剥落的抑制、改善方法进行了理论探讨与实验,证明亚阈值能量脉冲预辐照之后剥落面积明显减小,并且在一定范围内预辐照脉冲的能量密度越高相应的效果越明显,对作用机制给出了定性解释。
2023/9/9 2:40:48
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用分子束外延(MBE)技术,在GaAa(100)衬底上生长了厚度从0.045μm到1.4μm的ZnSe薄膜。
通过室温拉曼光谱的测量对ZnSe薄膜纵光学声子(Longitudinal-opticalphonon)的谱形进行了分析。
用拉曼散射的空间相关模型定量分析了一级拉曼散射的空间相关长度与晶体质量之间的关系,结果表明ZnSe外延层的晶体质量随着外延层厚度的减薄是渐渐退化的,这是由于界面失配位错引入外延层所致,理论分析与实验结果相吻合。
通过室温拉曼光谱的测量对ZnSe薄膜纵光学声子(Longitudinal-opticalphonon)的谱形进行了分析。
用拉曼散射的空间相关模型定量分析了一级拉曼散射的空间相关长度与晶体质量之间的关系,结果表明ZnSe外延层的晶体质量随着外延层厚度的减薄是渐渐退化的,这是由于界面失配位错引入外延层所致,理论分析与实验结果相吻合。
2023/8/21 4:12:03
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光学薄膜是现代光学和光电系统重要的组成部分，在光通信、光学显示、激光加工、激光核聚变等高科技及产业领域已经成为核心元器件，其技术突破常常成为现代光学及光电系统加速发展的主因。
光学薄膜的技术性能和可靠性，直接影响到应用系统的性能、可靠性及成本。
如图1是光通讯技术中使用窄带滤光片调制不同的通讯通道示意图[1]。
图2是激光核聚变系统中大量使用到的薄膜元器件[2]。
随着行业的不断发展，精密光学系统对光学薄膜的光谱控制能力和精度要求越来越高，而消费电子对光学薄膜器件的需求更强调超大的量产规模和普通大众的易用和舒适性。
光学薄膜的技术性能和可靠性，直接影响到应用系统的性能、可靠性及成本。
如图1是光通讯技术中使用窄带滤光片调制不同的通讯通道示意图[1]。
图2是激光核聚变系统中大量使用到的薄膜元器件[2]。
随着行业的不断发展，精密光学系统对光学薄膜的光谱控制能力和精度要求越来越高，而消费电子对光学薄膜器件的需求更强调超大的量产规模和普通大众的易用和舒适性。
2023/8/20 20:22:26
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基于时域有限差分法/时域多分辨（FDTD/MRTD）混合方法研究了微粗糙光学表面与多体缺陷粒子的复合光散射问题。
建立微粗糙光学表面与掩埋多体粒子复合散射模型，利用DB2小波尺度函数的移位内插原理，将计算区域分别划分为MRTD和FDTD方法区域，推导出复合散射场，计算微粗糙光学表面中掩埋多体粒子的复合散射截面，并与矩量法的结果比较以验证该方法的有效性。
分析入射角、气泡粒子的个数、相对位置及深度等物性特征对微粗糙光学表面与掩埋多体粒子复合双站散射截面的影响。
上述结果为光学无损检测、光学薄膜、微纳米结构的光学性能设计等领域提供技术支持。
建立微粗糙光学表面与掩埋多体粒子复合散射模型，利用DB2小波尺度函数的移位内插原理，将计算区域分别划分为MRTD和FDTD方法区域，推导出复合散射场，计算微粗糙光学表面中掩埋多体粒子的复合散射截面，并与矩量法的结果比较以验证该方法的有效性。
分析入射角、气泡粒子的个数、相对位置及深度等物性特征对微粗糙光学表面与掩埋多体粒子复合双站散射截面的影响。
上述结果为光学无损检测、光学薄膜、微纳米结构的光学性能设计等领域提供技术支持。
2023/7/9 22:57:55
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针对于斜入射激光辐照光学薄膜的情景，将激光的电矢量正交剖析为s偏振以及p偏振，并从麦克斯韦方程组动身，求患上激光在膜层中传输的电磁场漫衍，进而对于薄膜的光学特色举行了数值阐发。
以高反膜为例，下场评释：随着入射角的增大，s偏振光的反射率、透射率以及排汇率有庞大的浮动；
而p偏振光的反射率、透射率以及排汇率有明晰的变更，其反射率垂垂减小，透射率以及排汇率垂垂增大；
在高反膜中间波长左近，s偏振光以及p偏振光均有一高反宽带，与s偏振光相比，p偏振光的宽带明晰变窄，且p偏振光的排汇率相对于较高。
以高反膜为例，下场评释：随着入射角的增大，s偏振光的反射率、透射率以及排汇率有庞大的浮动；
而p偏振光的反射率、透射率以及排汇率有明晰的变更，其反射率垂垂减小，透射率以及排汇率垂垂增大；
在高反膜中间波长左近，s偏振光以及p偏振光均有一高反宽带，与s偏振光相比，p偏振光的宽带明晰变窄，且p偏振光的排汇率相对于较高。
2023/5/8 0:31:11
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在日常工作中，钉钉打卡成了我生活中不可或缺的一部分。然而，有时候这个看似简单的任务却给我带来了不少烦恼。
每天早晚，我总是得牢记打开钉钉应用，点击"工作台"，再找到"考勤打卡"进行签到。有时候因为工作忙碌，会忘记打卡，导致考勤异常，影响当月的工作评价。而且，由于我使用的是苹果手机，有时候系统更新后，钉钉的某些功能会出现异常，使得打卡变得更加麻烦。
另外，我的家人使用的是安卓手机，他们也经常抱怨钉钉打卡的繁琐。尤其是对于那些不太熟悉手机操作的长辈来说，每次打卡都是一次挑战。他们总是担心自己会操作失误，导致打卡失败。
为了解决这些烦恼，我开始思考是否可以通过编写一个全自动化脚本来实现钉钉打卡。经过一段时间的摸索和学习，我终于成功编写出了一个适用于苹果和安卓系统的钉钉打卡脚本。
2024-04-09 15:03
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