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大口径高通量验证实验平台片状放大器热致退偏效应研究

上传者: weixin_38680340 | 上传时间:2024/7/3 11:55:54 | 文件大小:3.35MB | 文件类型:PDF
大口径高通量验证实验平台片状放大器热致退偏效应研究
氙灯抽运将导致钕玻璃内产生不均匀温升,这是产生应力退偏的根本原因。
热致应力退偏效应将直接降低系统效率、影响光束质量,因此确定片内的温度分布以及应力分布,准确预测由此带来的光束退偏特性并合理设计光束填充因子是十分重要的。
介绍了我国第一台单束输出能力超过万焦耳的惯性约束聚变激光驱动器中大口径高通量验证实验平台片状放大器的热致退偏效应,通过理论模拟计算获得了钕玻璃片内三维温升分布、应力分布与由此导致的退偏分布特性,结果表明,片状放大器在5.28%/cm平均小信号增益系数输出的情况下整个光束口径内的应力双折射是很小的,但方光束的四个角部处的应力双折射较严重,最大的退偏量约为0.13%,该结果与劳伦斯·利弗莫尔实验室实验测得的结果基本一致。
输出的激光近场结果表明,片状放大器热致退偏效应可满足大能量装置输出设计要求。
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