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低密度台阶形闪耀光栅的制作
低密度台阶形闪耀光栅的制作
引见了制作低密度闪耀光栅的过程,在制作时,对传统的制作过程进行了改进,有效提高了制作质量。
以40μm闪耀光栅为例引见了制作的过程,得到了良好的光栅表面形貌,并且闪耀级次的衍射效率达到了70%以上。
相比传统的制作方法,效率提高了5%～10%。
对比了理论上的衍射效率,分析了实验误差,发现把存在对准误差的光栅进行处理将会有效地提高其衍射效率,为进一步提高闪耀光栅的衍射效率提供了依据。
引见了制作低密度闪耀光栅的过程,在制作时,对传统的制作过程进行了改进,有效提高了制作质量。
以40μm闪耀光栅为例引见了制作的过程,得到了良好的光栅表面形貌,并且闪耀级次的衍射效率达到了70%以上。
相比传统的制作方法,效率提高了5%～10%。
对比了理论上的衍射效率,分析了实验误差,发现把存在对准误差的光栅进行处理将会有效地提高其衍射效率,为进一步提高闪耀光栅的衍射效率提供了依据。
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